在設備設計上，采用成熟、可靠、先進(jìn)、自動(dòng)化程度高的兩級RO＋EDI＋精混床除鹽水處理工藝，確保處理后的超純水水質(zhì)出水電阻率達到18.2 MΩ.cm。關(guān)鍵設備及材料均采用國際主流先進(jìn)可靠產(chǎn)品，采用PLC＋觸摸屏控制，全套系統自動(dòng)化程度高，系統穩定性高。大大節省人力成本和維護成本，水利用率高，運行可靠，經(jīng)濟合理。使設備與其它同類(lèi)產(chǎn)品相比較，具有更高的性?xún)r(jià)比和設備可靠性。

鄭楷環(huán)保專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)RO＋EDI＋精混床超純水設備，有多年的生產(chǎn)經(jīng)驗，尤其在電控系統PLC方面在水處理行業(yè)技術(shù)都是比較成熟，我們也有做過(guò)很多各行業(yè)的水處理設備，這方面我們有豐富的經(jīng)驗。鄭楷環(huán)保做出來(lái)的設備質(zhì)量比他們都有優(yōu)勢，在國內具有一定的市場(chǎng)竟爭力。該產(chǎn)品由于具備性能好、價(jià)格低于國外同類(lèi)產(chǎn)品價(jià)格、供貨及時(shí)、售后服務(wù)方便快捷等諸多優(yōu)勢。

在LED生產(chǎn)中，其熒光屏內壁用噴涂法或沉淀法附著(zhù)一層熒光物質(zhì)，是鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光粉顆粒并用硅酸鉀粘合而成，其配制需用超純水，如純水中含銅在8ppb以上，就會(huì )引起發(fā)光變色；含鐵在50ppb以上就會(huì )使發(fā)光變色、變暗、閃光跳躍；含有機物膠體、微粒、細菌等，就會(huì )降低熒光層強度及其與玻殼的粘附力，并會(huì )造成氣泡、條跡、漏光點(diǎn)等廢次品。在黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)的12個(gè)工序中，玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗等5個(gè)工序需使用純水，每生產(chǎn)一個(gè)顯像管需用純水80kg。液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液，如純水中存在著(zhù)金屬離子、微生物、微粒等雜質(zhì)，就會(huì )使液晶顯示電路發(fā)生故障，影響液晶屏質(zhì)量，導致廢、次品。顯像管、液晶顯示器生產(chǎn)對純水水質(zhì)有極高的要求。

生產(chǎn)LED水質(zhì)標準：我公司LED用超純水出水水質(zhì)完全符合美國ASTM純水水質(zhì)標準、我國電子工業(yè)部電子級水質(zhì)技術(shù)標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準）、我國電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標準、美國半導體工業(yè)用純水指標、日本集成電路水質(zhì)標準、國內外大規模集成電路水質(zhì)標準。

LED光學(xué)超純水設備用超純水設備對水質(zhì)的要求：

新興的光電材料生產(chǎn)、加工、清洗；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線(xiàn)路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡(jiǎn)易性、自動(dòng)化程度、生產(chǎn)的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。

使用范圍

☆電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗

☆電子管生產(chǎn)、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液

☆顯像管和陰極射線(xiàn)管生產(chǎn)、配料用純水

☆黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水

☆液晶顯示器的生產(chǎn)、屏面需用純水清洗和用純水配液

☆晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制

☆ 集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片

☆半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路

☆LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏

☆高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn)

☆半導體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗

☆超純材料和超純化學(xué)試劑、超純化工材料

☆實(shí)驗室和中試車(chē)間

☆汽車(chē)、家電表面拋光處理

☆光電產(chǎn)品、其他高科技精微產(chǎn)品

2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線(xiàn)殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水對象（≥18MΩ.CM）(新工藝)

3、預處理→一級反滲透→加藥機（PH調節）→中間水箱→二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線(xiàn)殺菌器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水對象（≥17MΩ.CM）(新工藝)

4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線(xiàn)殺菌器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水對象（≥15MΩ.CM）(新工藝)
 5、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線(xiàn)殺菌器→精密過(guò)濾器→用水對象（≥15MΩ.CM）(傳統工藝)