光學(xué)薄膜清洗用超純水設備在設計上，采用成熟、可靠、先進(jìn)、自動(dòng)化程度高的兩級RO＋EDI＋精混床除鹽水處理工藝，確保處理后的超純水水質(zhì)確保處理后出水電阻率達到18.2 MΩ.cm。關(guān)鍵設備及材料均采用國際主流先進(jìn)可靠產(chǎn)品，采用PLC控制，全套系統自動(dòng)化程度高，系統穩定性高。大大節省人力成本和維護成本，水利用率高，運行可靠，經(jīng)濟合理。使設備與其它同類(lèi)產(chǎn)品相比較，具有更高的性?xún)r(jià)比和設備可靠性。鄭楷環(huán)保專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)二級反滲透＋EDI超純水設備，有多年的生產(chǎn)經(jīng)驗，尤其在電控系統PLC方面在水處理行業(yè)技術(shù)都是比較成熟，在LED、LCD、半導體、光學(xué)薄膜、光電光學(xué)企業(yè)的脫鹽水和超純水裝置，得到了業(yè)界的廣泛贊譽(yù)。

光學(xué)薄膜清洗用超純水設備各部件說(shuō)明：

1.自來(lái)水箱：主要解決自來(lái)水壓力不穩定的問(wèn)題，減少提升泵在運行過(guò)程中頻繁啟動(dòng)或受自來(lái)水壓力不穩定帶來(lái)的機械故障。

2.石英砂過(guò)濾器：自來(lái)水從罐體上端進(jìn)入，經(jīng)過(guò)上布水器均勻從濾層上端流向下端。自來(lái)水經(jīng)過(guò)濾層后通過(guò)下布水器脫離濾層，形成過(guò)濾水。

3.活性碳過(guò)濾器：活性碳過(guò)濾器內部結構成石英砂過(guò)濾器完全一樣。經(jīng)過(guò)活性碳吸附后自來(lái)水的余氯一般可降到0.1mg/l 以下。

4.軟水器：去除水中的鈣鎂離子，降低水的硬度，為EDI進(jìn)水創(chuàng )造條件

5.精密過(guò)濾器：主要使用5us的熔噴濾芯，可除去細小的顆粒，進(jìn)一步為反滲透進(jìn)水創(chuàng )造條件。

6.高壓泵：為反滲透運行提供需要的動(dòng)力。

7.反滲透系統：反滲透系統是反滲透純水設備的核心部件，在反滲透的設計上主要考濾膜元件的數量、品牌、排列三大問(wèn)題。

8.純水箱：用于儲存純水

9.EDI提升泵：為EDI提供穩定的壓力

10.EDI系統：將反滲透產(chǎn)水進(jìn)一步提純，使其電阻值達到15兆歐左右

11.核能混床：將EDI產(chǎn)水電阻值穩定在17兆歐左右，達到用戶(hù)用水要求